@article{oai:kumadai.repo.nii.ac.jp:00032803,
 author = {久保田, 弘 and 中田, 明良 and 木原, 健雄},
 journal = {工学研究機器センター報告},
 month = {Mar},
 pages = {10--10},
 title = {誘導結合型プラズマエッチング装置を用いた高アスペクト比SiO₂コンタクトホールの形成},
 volume = {35},
 year = {2003},
 yomi = {クボタ, ヒロシ and ナカダ, アキラ}
}