WEKO3
アイテム
Hydrostatic pressure effects on the optical transitions in free-standing porous silicon film
http://hdl.handle.net/2298/9650
http://hdl.handle.net/2298/9650bfcde01c-6402-461f-becc-4ca56625bc02
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
|---|---|---|
APL_63_346.pdf (420.9 kB)
|
|
| Item type | 学術雑誌論文 / Journal Article(1) | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2008-10-29 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Hydrostatic pressure effects on the optical transitions in free-standing porous silicon film | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | eng | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題 | porous silicon, ポーラスシリコン, free-standing film, 自立膜, laser photoluminescence, レーザ・フォトルミネッセンス, optical energy gap, 光学エネルギーギャップ, pressure dependence, 圧力依存性, amorphous semiconductors, アモルファス半導体 | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ | journal article | |||||
| 著者 |
Okubo, Norio
× Okubo, Norio× Matsuda, Yasuhiro× Kuroda, Noritaka |
|||||
| 別言語の著者 |
大久保, 紀雄
× 大久保, 紀雄× 松田, 康弘× 黒田, 規敬 |
|||||
| 内容記述 | ||||||
| 内容記述 | Optical absorption and photoluminescence spectra in the range 1.2–2.2 eV have been measured in free-standing films of porous Si under hydrostatic pressures up to 6.4 GPa at room temperature. The absorption rises nearly exponentially in the low energy region. Under pressure, the whole spectrum shifts toward lower energies with a pressure coefficient of about −90 meV/GPa. The photoluminescence spectrum also exhibits a redshift of about −40 meV/GPa. These results are interpreted by analogy with the pressure-induced shrinkage of the optical energy gap seen in amorphous chalcogenide semiconductors. | |||||
| 内容記述 | ||||||
| 内容記述 | ポーラスシリコンの高輝度で幅広い可視域のレーザ・フォトルミネッセンスが光デバイス工学で強い関心を集めており、本研究ではその起因を究明するために、独自の方法で自立薄膜を製作して光吸収とフォトルミネッセンスの静水圧依存性を測定した。得られた結果はアモルファスカルコゲナイド半導体における光学エネルギーギャップの圧力誘起縮小現象と類似した考え方で解釈できた。 | |||||
| 書誌情報 |
Applied Physics Letters 巻 63, 号 3, p. 346-348, 発行年 1993-07-19 |
|||||
| ISSN | ||||||
| 収録物識別子 | 00036951 | |||||
| 書誌レコードID | ||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||
| 収録物識別子 | AA00543431 | |||||
| DOI | ||||||
| 関連タイプ | isIdenticalTo | |||||
| 関連識別子 | 10.1063/1.110038 | |||||
| 権利 | ||||||
| 権利情報 | ©1993 American Institute of Physics | |||||
| フォーマット | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | application/pdf | |||||
| 形態 | ||||||
| 420897 bytes | ||||||
| 著者版フラグ | ||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||
| 日本十進分類法 | ||||||
| 主題Scheme | NDC | |||||
| 主題 | 431.8 | |||||
| その他の言語のタイトル | ||||||
| その他のタイトル | 自立ポーラスシリコン膜の光学遷移における静水圧効果 | |||||
| タイトル（ヨミ） | ||||||
| その他のタイトル | ジリツ ポーラス シリコンマク ノ コウガク センイ ニ オケル セイスイアツ コウカ | |||||
| 出版者 | ||||||
| 出版者 | American Institute of Physics | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | 論文(Article) | |||||
| 資源タイプ・ローカル | ||||||
| 雑誌掲載論文 | ||||||
| 資源タイプ・NII | ||||||
| Journal Article | ||||||
| 資源タイプ・DCMI | ||||||
| text | ||||||
| 資源タイプ・ローカル表示コード | ||||||
| 01 | ||||||
| URL | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | http://link.aip.org/link/?APPLAB/63/346/1 | |||||
| コメント | ||||||
| 黒田規敬: 熊本大学大学院自然科学研究科マテリアル工学講座・工学部マテリアル工学科 | ||||||
