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  1. 工学
  2. 発表論文(工学系)

Improvement of NOX removal efficiency using short-width pulsed power

http://hdl.handle.net/2298/3482
http://hdl.handle.net/2298/3482
51ee3319-2177-4287-9a82-7f437897425c
名前 / ファイル ライセンス アクション
00848102.pdf 00848102.pdf (217.9 kB)
Item type 学術雑誌論文 / Journal Article(1)
公開日 2007-08-06
タイトル
タイトル Improvement of NOX removal efficiency using short-width pulsed power
言語
言語 eng
キーワード
主題 NO removal, NO removal energy efficiency, NO removal ratio, pulsed power
資源タイプ
資源タイプ journal article
著者 浪平, 隆男

× 浪平, 隆男

WEKO 93420

en Namihira, Takao

ja 浪平, 隆男
ISNI

ja-Kana ナミヒラ, タカオ

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Tsukamoto, Shunsuke

× Tsukamoto, Shunsuke

WEKO 80172

Tsukamoto, Shunsuke

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王, 斗艶

× 王, 斗艶

WEKO 93413

ja 王, 斗艶
ISNI

ja-Kana オウ, トエン

en Wang, Douyan

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勝木, 淳

× 勝木, 淳

WEKO 167540

ja 勝木, 淳
ISNI

ja-Kana カツキ, スナオ

en Katsuki, Sunao

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Hackam, Reuben

× Hackam, Reuben

WEKO 80175

Hackam, Reuben

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Akiyama, Hidenori

× Akiyama, Hidenori

WEKO 80176

Akiyama, Hidenori

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Uchida, Yoshitaka

× Uchida, Yoshitaka

WEKO 80177

Uchida, Yoshitaka

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Koike, Masami

× Koike, Masami

WEKO 80178

Koike, Masami

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別言語の著者 浪平, 隆男

× 浪平, 隆男

WEKO 93420

en Namihira, Takao

ja 浪平, 隆男
ISNI

ja-Kana ナミヒラ, タカオ

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勝木, 淳

× 勝木, 淳

WEKO 80187

勝木, 淳

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秋山, 秀典

× 秋山, 秀典

WEKO 80188

秋山, 秀典

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王, 斗艶

× 王, 斗艶

WEKO 80189

王, 斗艶

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内容記述
内容記述 Pulsed power has been used to remove nitric oxide (NO) in a mixture of nitrogen, oxygen, and water vapor simulating the flue gases from a power station stack. The effect of the pulsewidth at a fixed applied voltage on NO removal concentration was studied. The dependence of the energy efficiency of the removal of NO at a fixed applied voltage on the pulsewidth, on the removal ratio of NO and on the discharge current was investigated. This removal energy efficiency increases with decreasing pulsewidth and decreasing removal ratio of NO.
書誌情報 IEEE TRANSACTIONS ON PLASMIC SCIENCE

巻 28, 号 2, p. 434-442, 発行年 2000-04
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA0066803X
DOI
関連タイプ isIdenticalTo
関連識別子 10.1109/27.848102
権利
権利情報 ©2000 IEEE. Personal use of this material is permitted. However, permission to reprint/republish this material for advertising or promotional purposes or for creating new collective works for resale or redistribution to servers or lists, or to reuse any copyrighted component of this work in other works must be obtained from the IEEE. IEEE, IEEE TRANSACTIONS ON PLASMIC SCIENCE, 28, 2, 2000, 434-442
フォーマット
内容記述タイプ Other
内容記述 application/pdf
形態
217899 bytes
著者版フラグ
出版タイプ VoR
日本十進分類法
主題Scheme NDC
主題 500
出版者
出版者 Institute of Electrical and Electronics Engineers
資源タイプ
内容記述タイプ Other
内容記述 論文(Article)
資源タイプ・ローカル
雑誌掲載論文
資源タイプ・NII
Journal Article
資源タイプ・DCMI
text
資源タイプ・ローカル表示コード
01
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Ver.1 2023-06-19 19:16:39.406678
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