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  1. 工学
  2. 科研費報告(工学系)

Wet process を用いた高次フラーレン・フラーレンポリマーの 二次元組織化

http://hdl.handle.net/2298/9468
http://hdl.handle.net/2298/9468
102d8c34-e1aa-4da2-8e1b-574ea15c2865
名前 / ファイル ライセンス アクション
KaB12450023.pdf KaB12450023.pdf (1.8 MB)
Item type 研究報告書 / Research Paper(1)
公開日 2008-10-03
タイトル
タイトル Wet process を用いた高次フラーレン・フラーレンポリマーの 二次元組織化
言語
言語 jpn
キーワード
主題 フラーレンポリマー, フラーレンオリゴマー, フラーレントリマー, STM, ウエットプロセス, エピタキシャル薄膜
資源タイプ
資源タイプ research report
著者 國武, 雅司

× 國武, 雅司

WEKO 93303

國武, 雅司

Search repository
別言語の著者 國武, 雅司

× 國武, 雅司

WEKO 165973

ja 國武, 雅司
ISNI

ja-Kana クニタケ, マサシ

en Kunitake, Masashi

Search repository
内容記述
内容記述 本年度は、前年度までに確立した気液界面を利用したフラーレンエピタキシャル薄膜成法を用いて二次元フラーレンポリマーの構築と確認を行った。
(1)C_<60> クロロホルム溶液を展開して作成した気液界面でのフラーレン分子膜を、Heガス雰囲気下、中圧水銀ランプを照射することにより、フラーレンポリマーを合成した。これは、我々が知る限り世界で初めての試みである。生じたフラーレンポリマーを基板上にすくい取りIR-RASスペクトルおよびSTM観察により、フラーレンポリマーの生成を確認した。
(2)気液界面膜(L膜)の状態で、光照射時間に対するC_<60>L膜のIRスペクトルの変化を調査したところ、ダイマーもしくはそれ以上の高次フラーレンポリマーに由来すると考えられる新しい吸収が1461cm^<-1>に現れ、光照射時間の延長に伴い1428cm^<-1>(C_<60>)に対する1461cm^<-1> (C_<60>ポリマー)のピーク比が増大することが確認された。また気液界面展開後も溶媒が分子膜中に残っており、それが重合に影響するため、展開溶媒により重合挙動が違うことが明らかとなった。
(3)C_<60>ポリマーをヨウ素修飾Au(111)面(I/Au面)上に写し取り、STMを用いて溶液中でC_<60>ポリマーの直接観察を試みたところ、二次元フラーレンポリマー分子膜を観察することが出来た。フラーレンモノマーはI/Au基板上では吸着力が弱いため室温では固定されずSTMで観察することができないことからC_<60>ポリマーであることがわかった。I/Au(111)面上のC_<60>ポリマー分子膜は、Au(111)面上のC_<60>モノマー分子膜と類似のヘキサゴナル構造をとっていたが、モノマーでは観察されない特異的な構造も観察された。
書誌情報 発行日 2002-03
フォーマット
内容記述 application/pdf
形態
1802470 bytes
著者版フラグ
出版タイプ VoR
日本十進分類法
主題Scheme NDC
主題 428
タイトル(ヨミ)
その他のタイトル Wet process オ モチイタ コウジ フラーレン フラーレンポリマー ノ ニジゲン ソシキカ
出版者
出版者 熊本大学
資源タイプ
内容記述タイプ Other
内容記述 研究報告書
資源タイプ・ローカル
研究報告書
資源タイプ・NII
Research Paper
資源タイプ・DCMI
text
資源タイプ・ローカル表示コード
06
関連
関連タイプ hasPart
識別子タイプ URI
関連識別子 http://hdl.handle.net/2298/9469
コメント
平成12年度~平成13年度科学研究費補助金(基盤研究(B))研究成果報告書 課題番号:12450023
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Ver.1 2023-06-19 19:11:08.506382
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