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アイテム
Wet process を用いた高次フラーレン・フラーレンポリマーの 二次元組織化
http://hdl.handle.net/2298/9468
http://hdl.handle.net/2298/9468102d8c34-e1aa-4da2-8e1b-574ea15c2865
名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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Item type | 研究報告書 / Research Paper(1) | |||||
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公開日 | 2008-10-03 | |||||
タイトル | ||||||
タイトル | Wet process を用いた高次フラーレン・フラーレンポリマーの 二次元組織化 | |||||
言語 | ||||||
言語 | jpn | |||||
キーワード | ||||||
主題 | フラーレンポリマー, フラーレンオリゴマー, フラーレントリマー, STM, ウエットプロセス, エピタキシャル薄膜 | |||||
資源タイプ | ||||||
資源タイプ | research report | |||||
著者 |
國武, 雅司
× 國武, 雅司 |
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別言語の著者 |
國武, 雅司
× 國武, 雅司 |
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内容記述 | ||||||
内容記述 | 本年度は、前年度までに確立した気液界面を利用したフラーレンエピタキシャル薄膜成法を用いて二次元フラーレンポリマーの構築と確認を行った。 (1)C_<60> クロロホルム溶液を展開して作成した気液界面でのフラーレン分子膜を、Heガス雰囲気下、中圧水銀ランプを照射することにより、フラーレンポリマーを合成した。これは、我々が知る限り世界で初めての試みである。生じたフラーレンポリマーを基板上にすくい取りIR-RASスペクトルおよびSTM観察により、フラーレンポリマーの生成を確認した。 (2)気液界面膜(L膜)の状態で、光照射時間に対するC_<60>L膜のIRスペクトルの変化を調査したところ、ダイマーもしくはそれ以上の高次フラーレンポリマーに由来すると考えられる新しい吸収が1461cm^<-1>に現れ、光照射時間の延長に伴い1428cm^<-1>(C_<60>)に対する1461cm^<-1> (C_<60>ポリマー)のピーク比が増大することが確認された。また気液界面展開後も溶媒が分子膜中に残っており、それが重合に影響するため、展開溶媒により重合挙動が違うことが明らかとなった。 (3)C_<60>ポリマーをヨウ素修飾Au(111)面(I/Au面)上に写し取り、STMを用いて溶液中でC_<60>ポリマーの直接観察を試みたところ、二次元フラーレンポリマー分子膜を観察することが出来た。フラーレンモノマーはI/Au基板上では吸着力が弱いため室温では固定されずSTMで観察することができないことからC_<60>ポリマーであることがわかった。I/Au(111)面上のC_<60>ポリマー分子膜は、Au(111)面上のC_<60>モノマー分子膜と類似のヘキサゴナル構造をとっていたが、モノマーでは観察されない特異的な構造も観察された。 |
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書誌情報 | 発行日 2002-03 | |||||
フォーマット | ||||||
内容記述 | application/pdf | |||||
形態 | ||||||
1802470 bytes | ||||||
著者版フラグ | ||||||
出版タイプ | VoR | |||||
日本十進分類法 | ||||||
主題Scheme | NDC | |||||
主題 | 428 | |||||
タイトル(ヨミ) | ||||||
その他のタイトル | Wet process オ モチイタ コウジ フラーレン フラーレンポリマー ノ ニジゲン ソシキカ | |||||
出版者 | ||||||
出版者 | 熊本大学 | |||||
資源タイプ | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | 研究報告書 | |||||
資源タイプ・ローカル | ||||||
研究報告書 | ||||||
資源タイプ・NII | ||||||
Research Paper | ||||||
資源タイプ・DCMI | ||||||
text | ||||||
資源タイプ・ローカル表示コード | ||||||
06 | ||||||
関連 | ||||||
関連タイプ | hasPart | |||||
識別子タイプ | URI | |||||
関連識別子 | http://hdl.handle.net/2298/9469 | |||||
コメント | ||||||
平成12年度~平成13年度科学研究費補助金(基盤研究(B))研究成果報告書 課題番号:12450023 |